本文摘要：韩国FST首次供应EUV光罩护膜贴合/分离/检查设备

智慧城市网消息，据etnews报道，韩国FST已供应极紫外光罩护膜设备。

韩国FST首次供应EUV光罩护膜贴合/分离/检查设备

智慧城市网消息，据etnews报道，韩国FST已供应极紫外光罩护膜设备。光罩护膜是用于半导体曝光工艺的材料，最大限度地减少对绘制半导体电路图案的掩膜的损坏。

EUV对于超精细半导体制造至关重要，并且光罩护膜在EUV工艺中的使用正在增加。EUV工艺中使用韩国产材料、零部件或设备的情况极为罕见，但FST成功迈出了第一步。

FST公司在7月17日宣布，获得国内半导体制造商的极紫外光罩护膜贴合、分离和检测设备订单。这是FST首次销售光罩护膜相关设备。

首先，可拆卸设备是自动将EUV光罩护膜贴附到EUV掩膜上的设施。EUV光罩护膜是昂贵的部件，每片成本高达数亿韩元，可用于保护EUV掩膜。

过去，将光罩护膜与掩膜连接和分离的许多过程都是手动完成的，不仅容易受到污染，而且工作速度也慢，这成为EUV光罩护膜导入的障碍。

▲EUV光罩护膜安装和拆卸设备

FST支持100%自动化，通过这种方式，可以降低工艺污染的可能性，并且还可以提高“产量”。

FST还赢得了EUV光罩护膜检查设备的订单。通过检查EUV光罩护膜的关键部件膜和框架上的异物，可以检查EUV光罩护膜的污染程度或寿命，有助于确保EUV光罩护膜更换周期等经验数据。

▲EUV光罩护膜检查系统

EUV光罩护膜检测设备不仅可用于半导体制造过程，也可供EUV光罩护膜开发商和制造商使用。

预计需求来自半导体制造商以外的材料和零部件制造商。FST也在开发自己的EUV光罩护膜。该公司还计划积极利用检查设备。

FST此次供货代表韩国产设备进入了EUV生态系统。

至于EUV，曝光设备由荷兰ASML独家供应，EUV的光罩护膜和光刻胶也依赖日本。由于技术门槛较高，FST设备能否量产备受关注。

FST相关人士表示，“如果未来EUV工艺在主要半导体制造行业使用，我们预计相关设备的需求将大幅增加。”

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